DIN-Normenausschuss Feinmechanik und Optik (NAFuO)
DIN 32566
Fertigungsmittel für Mikrosysteme - Spezifikation eines Maskentragrings für die Röntgentiefenlithographie
Production equipment for microsystems - Specification for an X-Ray Lithography Mask Support Ring
Einführungsbeitrag
Die Norm legt Anforderungen für die äußeren Abmessungen des Tragrings einer Maske für die Röntgentiefenlithographie fest. Ziel ist, dass die Masken von unterschiedlichen Nutzern in die Belichtungsgeräte der Röntgenlithographie-Zentren eingebaut werden können. Auf eine Normung der inneren Abmessungen des Maskentragrings, die Fixierung des Maskensubstrats auf dem Maskentragring und der Geometrie des Layoutfeldes wird verzichtet. Damit werden den unterschiedlichen Anforderungen der Nutzer an die Röntgenlithographie Rechnung getragen und Einschränkungen für zukünftige Entwicklungen ausgeschlossen.
Die Norm enthält Empfehlungen für die inneren Abmessungen des Maskentragrings, die aus Erfahrungswerten der beiden deutschen Zentren für Röntgenlithographie stammen (BESSY Berlin und Forschungszentrum Karlsruhe).
Die Norm wurde vom Arbeitsausschuss NA 027-03-03 AA "Fertigungsmittel für Mikrosysteme" im NAFuO erstellt.
