ISO 25164
Physikalische Gasphasenabscheidung – Magnetron-Sputter-Abscheidung von TiAlSiN-Dünnschichten – Spezifikation

Titel (englisch)

Physical vapor deposition coatings - Magnetron sputtering deposition of TiAlSiN thin films - Specification

NA 062-02-103 AA - Kohlenstoffschichten und keramische Hartstoffschichten

ISO/TC 107/SC 9 - Beschichtungen durch Physikalische Gasphasenabscheidung (PVD)

Ausgabe 2026-08

Originalsprache Englisch

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