Kurzreferat

Dieses Dokument legt ein Verfahren zur Bestimmung der für die Halbleitertechnologie wichtigen Elemente Ag, Al, As, Au, Ba, Be, Bi, Ca, Cd, Co, Cr, Cu, Fe, Ga, Ge, In, Ir, K, La, Li, Mg, Mn, Mo, Na, Nb, Ni, Pb, Pt, Rh, Sb, Sn, Sr, Ta, Ti, Tl, V, W, Y, Zn und Zr in Wasserstoffperoxid im Spurenbereich fest, wobei als Bestimmungsverfahren die Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma als Ionenquelle (ICP MS, en: inductively coupled plasma mass spectrometry) eingesetzt wird.

Beginn

2025-12-09

Geplante Dokumentnummer

DIN 50451-9

Projektnummer

06236919

Zuständiges nationales Arbeitsgremium

NA 062-10-103 AA - Prüfung von Prozessmaterialien für die Halbleitertechnologie  

Norm-Entwurf

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung von Elementspuren in Flüssigkeiten - Teil 9: Bestimmung von 40 Elementen in Wasserstoffperoxid mittels ICP-MS
2026-11
Kaufen bei DIN Media