NA 062

DIN-Normenausschuss Materialprüfung (NMP)

Norm-Entwurf [ZURÜCKGEZOGEN]

DIN 50453-1
Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung der Ätzraten von Ätzmischungen - Teil 1: Silicium-Einkristalle, Gravimetrisches Verfahren

Titel (englisch)

Testing of materials for semiconductor technology - Determination of etch rates of etching mixtures - Part 1: Silicium monocrystals, gravimetric method

Einführungsbeitrag

Dieses Dokument legt ein Verfahren fest, welches zur schnellen Bestimmung der Ätzrate von Ätzmischungen an Siliciumsubstraten dient. Dieses Dokument ist für Ätzmischungen anwendbar, die bei Silicium eine weitgehend gleichmäßige Flächenabtragung bewirken. Dieses Dokument wurde vom Arbeitsausschuss NA 062-02-21 AA "Prüfung von Prozessmaterialien für die Halbleitertechnologie" im DIN-Normenausschuss Materialprüfung (NMP) erarbeitet.

Änderungsvermerk

Gegenüber DIN 50453-1:1990-10 wurden folgende Änderungen vorgenommen: a) Aktualisierung der normativen Verweisungen, Verschiebung in das Literaturverzeichnis; b) redaktionelle Bearbeitung des Abschnittes 1 "Anwendungsbereich"; c) Abschnitt 5 "Einheiten" entfernt und somit neue Nummerierung; d) Überarbeitung ehemaliger Abschnitt 6 "Geräte"; e) Aktualisierung von ehemaligem Abschnitt 7 "Silicum-Substrat"; f) Überarbeitung von ehemals 9.3 "Kristallorientierung" 9.5 "Spezifische Zusammensetzung der einzelnen Ätzmischung", 9.7 "Temperatur" und 9.8 "Massendifferenz"; g) früherer Abschnitt 10 "Probenvorbereitung" aktualisiert und Änderung der Zusammensetzung der Lösung zur Entfettung und Hydrophilierung von Ammoniumperoxodisulfat zu Wasserstoffperoxid; h) Überarbeitung von ehemaligem Abschnitt 11 "Durchführung"; i) Aktualisierung des Prüfberichts, ehemaliger Abschnitt 14; j) redaktionelle Überarbeitung.

Zuständiges nationales Arbeitsgremium

NA 062-02-21 AA - Prüfung von Prozessmaterialien für die Halbleitertechnologie  

Ausgabe 2023-02
Originalsprache Deutsch
Preis ab 49,20 €
Inhaltsverzeichnis

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